大家知道什么是專利申請?zhí)枂幔繉＠暾執(zhí)柡蛯＠柺且粯拥膯?？專利申請?zhí)柋磉_了哪些意義呢？下面給大家介紹一下吧！

　　專利申請?zhí)柌皇菍＠?。一個是申請中的，一個是申請后的。

　　申請?zhí)柺侵冈趯＠暾埲讼驀抑R產(chǎn)權局提出專利申請，國家知識產(chǎn)權局給予專利申請受理通知書，并給予專利的申請?zhí)枴?

　　專利號是在授予專利權時給出的編號，是文獻號的一種。文獻號是各工業(yè)產(chǎn)權局在公布專利文獻（包括公開出版和僅提供閱覽復制）時編制的序號。專利申請人獲得專利權后，國家知識產(chǎn)權局頒發(fā)的專利證書上專利號為：ZL（專利的首字母）+申請?zhí)?。若一個專利在申請中，但是卻在申請?zhí)柷凹由蟌L字母（使消費者誤以為是授權專利），屬于假冒專利行為，工商行政部門會依法給予查處。

　　專利申請?zhí)柛袷剑簢掖a+專利申請?zhí)柧幋a（申請+專利申請種類號+申請流水號）+校驗位。

　　四個部分，具體如下：

　　一、申請表示專利申請的受理年份；

　　二、專利申請號中的申請種類號用1位數(shù)字表示，不同的種類號，對應不同的專利申請類型：

　　“1”表示發(fā)明專利申請；

　　“2”表示實用新型專利申請；

　　“3”表示外觀設計專利申請；

　　“8”表示進入中國國家階段的PCT發(fā)明專利申請；

　　“9”表示進入中國國家階段的PCT實用新型專利申請。

　　三、流水號用7位連續(xù)數(shù)字表示，一般按照升序使用，例如從0000001開始，順序遞增，直至9999999。每一自然年度的專利申請?zhí)栔械纳暾埩魉栔匦戮幣?，即從每?月1日起，新發(fā)放的專利申請?zhí)栔械纳暾埩魉柌谎永m(xù)上一年度所使用的申請流水號，而是從0000001重新開始編排。

　　四、校驗位由一個標點符號的“.”和一位數(shù)字或字母組成。它的作用主要是校驗整個申請?zhí)柕恼_性。

　　例如，申請?zhí)枮?01710287887 .0的申請，根據(jù)上述可知，是一件2017年受理的發(fā)明專利申請。

　　一、專利申請的種類

　　專利的申請需要一定的流程，內(nèi)容不同，類型不同，本文將對專利申請進行簡單的描述。

　　專利申請的類型

　　我國專利申請有三種類型，如下:

　　(一)發(fā)明專利:是指對產(chǎn)品、方法或者其改進所提出的新的技術方案。

　　(二)實用新型專利:是指對產(chǎn)品的形狀、構造或者其結合所提出的適于實用的新的技術方案。

　　(三)外觀設計專利:是指對產(chǎn)品的形狀、圖案或者其結合以及色彩與形狀、圖案的結合所作出的富有美感并適于工業(yè)應用的新設計

　　不同專利申請的類型的區(qū)別如下:

　　1、專利授權時間:發(fā)明專利授予專利權通常需要的時間為3年左右。實用新型專利授予專利權通常需要的時間為1年左右。外觀設計專利授予專利權通常需要的時間為8個月左右。

　　2、專利權的保護期限:發(fā)明專利的保護期限是20年。實用新型專利的保護期限是10年。外觀設計專利的保護期限是10年。

　　二、不同專利申請類型如何申請

　　申請專利需要提供的資料:

　　1、發(fā)明創(chuàng)造名稱:名稱應簡單、明確地反映發(fā)明創(chuàng)造的主題和類型。

　　2、背景技術:與本發(fā)明創(chuàng)造最相接近的現(xiàn)有技術的情況。

　　3、發(fā)明創(chuàng)造的技術方案:產(chǎn)品類的發(fā)明創(chuàng)造:結合附圖，清楚、完整地寫明各部件名稱，及其相互之間的聯(lián)接關系，并說明其工作過程，所提供方案以本技術領域的普通技術人員能夠實現(xiàn)為準;電子類的發(fā)明創(chuàng)造:提供電路圖或框圖，并結合圖中各電子器件或模塊說明其原理;方法類的發(fā)明創(chuàng)造:包括加工工藝、化工產(chǎn)品、藥品、食品等，應詳細地說明其加工工藝步驟及工藝條件的限定，并根據(jù)需要提供相應的工藝流程圖;對于計算機、通訊等領域涉及的方法發(fā)明創(chuàng)造，則應提供該方法的處理過程，并根據(jù)需要提供其流程圖。

　　4、發(fā)明創(chuàng)造的有益效果和優(yōu)點:描述本發(fā)明創(chuàng)造與現(xiàn)有技術對比所具有的積極的效果和優(yōu)點，且所述的優(yōu)點和效果是由于采用了發(fā)明創(chuàng)造的技術方案而直接獲得的。

　　5、附圖說明:如果有附圖，附圖應按機械制圖標準繪制。

　　6、實施例:產(chǎn)品類和電子類的發(fā)明創(chuàng)造:實施例是實現(xiàn)發(fā)明創(chuàng)造的一種或多種具體設計方案，如果提供有附圖，該部分應結合附圖進行說明，并將附圖中的標號標注在相應的零件之后，可以根據(jù)需要說明其功能、動態(tài)構造、工作原理和使用方法等。方法類的發(fā)明創(chuàng)造:應詳細說明其工藝過程、操作步驟和具體的工藝參數(shù)等，通常應該供多種工藝參數(shù)結合的實施例方案;對于計算機、通訊等領域涉及的方法發(fā)明創(chuàng)造，則應結合流程圖等提供該方法的詳細的具體實現(xiàn)的方案，可以提供多種方案。

　　以上所提及的都是有關專利申請的法律知識，從中可以知道專利申請有三種類型，分別為發(fā)明專利、實用新型專利和外觀設計專利，而不同類型的專利申請所需提供的材料也不同，因此申請人在申請專利之前要了解一下相關規(guī)定，并且不少企業(yè)在專利申請過程中仍存在誤區(qū)。

　　誤區(qū)一 技術方案交待不清楚

　　很多人提交的專利申請文件非常簡單，有的甚至只有幾句話，技術方案完全沒有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請文件帶來很大困難。

　　在要求發(fā)明人提供更多的技術方案時，他們會以技術保密為由回避。

　　這些發(fā)明人其實就是沒有把握好保密與公開的度。

　　他們過度地要求保密，害怕多透露一點技術信息，而恰恰是這種“過度”忽視了技術方案交待不清楚，公開不充分的問題。

　　誤區(qū)二 專利申請前不做任何檢索

　　有些發(fā)明人提交的專利申請文件沒有做查新檢索，對技術方案的新穎性如何不確定。

　　甚至根本不知道其技術方案有沒有公開過或公開使用過，這也是一個非常普遍的現(xiàn)象。

　　全世界范圍內(nèi)的任何文獻都可影響技術方案的新穎性。但在使用方面，只有國內(nèi)的使用才影響技術方案的新穎性。

　　誤區(qū)三 先發(fā)表論文或成果鑒定再申請專利

　　有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護。

　　由于發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術內(nèi)容，使專利申請失去新穎性而得不到保護。

　　誤區(qū)四 對專利缺乏有效的管理

　　有些企業(yè)申請了很多專利，但無專人管理。

　　專利文件之間有的互相沖突，有的已無市場價值還在交納年費。

　　有的專利權已經(jīng)遭受侵犯但企業(yè)管理者對專利特征不了解，不能及時提起訴訟。

　　誤區(qū)五 缺乏長遠的專利戰(zhàn)略規(guī)劃

　　有計劃地實施專利戰(zhàn)略對企業(yè)來說非常重要，可以避免時間和精力的浪費。

　　一些企業(yè)毫無目的的申請大量專利，結果導致授權率低，并產(chǎn)生大量的垃圾專利，浪費時間和精力。

　　一個企業(yè)應該對自己行業(yè)內(nèi)的基本專利狀況及專利狀況有十分明確的認識。從而找到技術突破口，排除他人專利障礙，確立自己的專利優(yōu)勢，贏得市場競爭。

　　總的來說，專利無論是對于企業(yè)還是個人都是非常重要的。企業(yè)一定要對自己的商標、專利、知識產(chǎn)權等進行一個系統(tǒng)的分類并做好管理，同時重視知識產(chǎn)權的保護。

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